This site uses cookies. By continuing to browse this site, you are agreeing to our ue of cookies.

laboratory and medical technologies for You

laboratory and medical technologies for You

Stanovenie rôznych prvkov v kyseline fosforečnej čistoty pre polovodiče  s ICP-OES

Stanovenie rôznych prvkov v kyseline fosforečnej čistoty pre polovodiče s ICP-OES

Star InactiveStar InactiveStar InactiveStar InactiveStar Inactive
 

Pri výrobe polovodičov je čistota činidiel veľmi dôležitá, pretože prítomnosť cudzorodých látok môže mať vplyv na kvalitu konečných produktov. Kyselina fosforečná sa bežne používa pri výrobe rôznych polovodičových materiálov a predstavuje analytickú výzvu vzhľadom k jej viskozite, zloženiu a koncentrácii. Všetky analýzy boli vykonané s PerkinElmer OPTIMA 8300 ICP-OES, ktorá využíva technológiu plochých indukčný dosiek namiesto tradičnej indukčnej cievky. Nevyžaduje sa chladenie cievky a plazmový systém je schopný prevádzky pri tak nízkom prietoku Ar, ako je 8 l/min. Analyzované prvky sú uvedené v tabuľkách v tomto článku. Za účelom overenia správnosti a robustnosti metódy bol vykonaný test návratnosti prídavku štandardu. Výťažnosti sa pohybovali v rozmedzí 90 – 111 % v rámci požiadavky SEMI C36-1107. Táto práca preukázala, že pomocou Optima 8300 ICP-OES môže byť kyselina fosforečná efektívne zanalyzovaná tak, aby boli splnené požiadavky SEMI C36-1107. Využitím plazmovej technológie s plochými indukčnými doskami so spotrebou argónu 8 l/min. sa výrazne znižujú prevádzkové náklady, produkuje sa robustná plazma, čo má za následok stabilitu signálu pri zložitých matriciach a nízke medze detekcie.

Celý článok vo formáte pdf: Determination of Warious Elements in Semiconductor – Grade Phosphoric Acid by ICP-OES

Search